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干式摩擦离合器

摘要

本实用新型提供一种可防止由因重修表面而产生的磨损粉末所引起的摩擦特性的恶化的干式摩擦离合器。所述干式摩擦离合器,包括可旋转地支撑在固定轴的对面板与离合器盘,在固定在离合器盘的压板/按压构件与对面板在轴方向上相向的位置,插设可旋转地支撑在固定轴的摩擦构件,通过使离合器盘在轴方向上移动,而将从对面板朝离合器盘的动力传达断开/接通,在固定轴可旋转地设置清扫构件,且设置接触/分离机构,所述接触/分离机构在离合器打开时,使清扫构件抵接在对面板的摩擦面来清扫所述摩擦面,在离合器紧固时使清扫构件从摩擦面分离。

著录项

  • 公开/公告号CN211951249U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-11-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 本田技研工业株式会社;

    申请/专利号CN202020543765.0

  • 发明设计人 佐藤勇弥;

    申请日2020-04-14

  • 分类号F16D13/58(20060101);F16D13/44(20060101);B08B1/00(20060101);B08B13/00(20060101);

  • 代理机构11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司;

  • 代理人杨贝贝;臧建明

  • 地址 日本东京港区南青山2-1-1(邮递区号:107-8556)

  • 入库时间 2022-08-22 18:03:36

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