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一种半导体制造用湿法清洗设备

摘要

本实用新型公开了一种半导体制造用湿法清洗设备,涉及半导体技术领域,包括机体,所述机体的一侧固定连接有旋转盘控制按钮,所述机体的一侧固定连接有喷水洒控制按钮,所述机体的一侧固定连接有风扇控制按钮,所述机体的一侧固定连接有出水管,所述机体内壁的顶部固定连接有喷水洒。该半导体制造用湿法清洗设备,通过在机体内壁固定连接了立柱,以及旋转盘、放置架和活动卡扣之间的配合设置,极大的提高了清洗吹干的效果,解决了现有清洗吹干效果不理想的情况。该半导体制造用湿法清洗设备,通过在机体一侧固定连接了旋转盘控制按钮、喷水洒控制按钮、风扇控制按钮,解决了现有的清洗吹干过程比较繁琐的情况。

著录项

  • 公开/公告号CN211555831U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-09-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江苏邑文微电子科技有限公司;

    申请/专利号CN201921076056.X

  • 发明设计人 廖海涛;

    申请日2019-07-10

  • 分类号H01L21/67(20060101);

  • 代理机构11400 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人朱建

  • 地址 226000 江苏省南通市如东县掘港街道金山路1号

  • 入库时间 2022-08-22 16:50:07

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