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一种硅片抛光加工过程中抛光设备用蜡嘴保湿装置

摘要

本申请属于半导体加工设备技术领域,具体涉及一种硅片抛光加工过程中抛光设备用蜡嘴保湿装置。该装置包括:连接有阻凝液盛放容器的阻凝管路、以及固定阻凝管路的固定支架;所述阻凝液盛放容器,用于盛放阻凝管路与抛光设备的蜡嘴接触处阻凝管路所流出的阻凝液;所述阻凝管路,一端与抛光设备的蜡嘴连接,另外一端与阻凝液输送管路连接;所述固定支架,包括:竖向固定底座、横向固定支架和阻凝管固定架三个部分。本申请所设计的蜡嘴保湿装置,较好实现了蜡嘴保湿的目标,改善了长时间停机所造成蜡嘴管口凝固、堵塞等现象;对于确保硅片抛光加工过程中涂蜡均匀性、提高抛光良率具有较好的实用价值。

著录项

  • 公开/公告号CN211388245U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-09-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 郑州合晶硅材料有限公司;

    申请/专利号CN201922134728.4

  • 申请日2019-12-03

  • 分类号B24B29/02(20060101);B24B57/02(20060101);

  • 代理机构41104 郑州联科专利事务所(普通合伙);

  • 代理人张晓萍

  • 地址 450000 河南省郑州市航空港区郑港六路蓝山公馆202号

  • 入库时间 2022-08-22 16:25:20

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