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一种防止曝光不足的过孔结构及电路产品

摘要

本实用新型公开了一种防止曝光不足的过孔结构,包括下层透明电极、设于所述下层透明电极上的第一透明绝缘层和设于所述第一透明绝缘层上的上层电极,所述第一透明绝缘层开设有至少一过孔,所述上层电极从所述第一透明绝缘层的过孔处与所述下层透明电极搭接导通;所述下层透明电极对应于所述过孔处的下方设有光反射层。该过孔结构可防止曝光时出现曝光不足的情况,提高产品良率。本实用新型还公开了一种电路产品。

著录项

  • 公开/公告号CN211376634U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-08-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 信利(仁寿)高端显示科技有限公司;

    申请/专利号CN202020213377.6

  • 发明设计人 柳发霖;张东琪;张泽鹏;马亮;

    申请日2020-02-26

  • 分类号

  • 代理机构广州粤高专利商标代理有限公司;

  • 代理人李健威

  • 地址 620500 四川省眉山市仁寿县文林工业园区管委会办公楼一楼

  • 入库时间 2022-08-22 16:18:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-28

    授权

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