首页> 中国专利> 一种兼顾双尺寸靶的小体积剥蚀池

一种兼顾双尺寸靶的小体积剥蚀池

摘要

本实用新型提供了一种兼顾双尺寸靶的小体积剥蚀池,包括外腔体以及样品座,外腔体的下部为侧壁开口结构的样品室,样品座的外形与侧壁开口结构相匹配,且样品座可插接式的连接在样品室内;所述样品座整体结构呈环形,样品座的上表面和下表面与外腔体相接触,且上表面和下表面均嵌入设置有对样品座与腔体之间进行密封的环形橡胶圈,所述样品座的内径对应大靶的直径,样品座的内部设置有活动连接的小靶座,所述小靶座为环形结构,小靶座的外径与大靶直径相同,小靶座的内径与小靶直径相同。本申请提供的小体积剥蚀池结构简单、使用方便、成本低,且能够有效的降低剥蚀池内部的位置效应和记忆效应。

著录项

  • 公开/公告号CN211122659U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-07-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉上谱分析科技有限责任公司;

    申请/专利号CN201921998810.5

  • 发明设计人 高伟;黄云泽;孔嘉康;刘铮;

    申请日2019-11-19

  • 分类号

  • 代理机构武汉诚儒知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘天钰

  • 地址 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区北斗路6号武汉国家地球空间信息产业化基地(新区)一期1.1期A11栋2层01室

  • 入库时间 2022-08-22 15:35:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-28

    授权

    授权

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献