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一种具有位置调节作用的PCB板曝光框架

摘要

本实用新型属于曝光机领域,主要公开一种具有位置调节作用的PCB板曝光框架,包括PCB板框架和用于调节该PCB板框架水平位置的升降调节机构,PCB板框架的底部设有下框架调节对位机构,所述下框架调节对位机构包括支撑框架,支撑框架的四个转角处均设有下框架水平位置调节机构,其中一个下框架水平位置调节机构为支撑不动机构、另外三个下框架水平位置调节机构为驱动机构,所述下框架水平位置调节时、三个下框架水平位置调节机构独立驱动,三个所述下框架水平位置调节机构通过调节电机带动旋转轴控制下框架与PCB板的对位调节。这种具有调节作用的PCB板框架能够更高效的完成PCB板的对位,提高曝光效率。

著录项

  • 公开/公告号CN211090189U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-07-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东莞市多普光电设备有限公司;

    申请/专利号CN201921670446.X

  • 申请日2019-10-08

  • 分类号

  • 代理机构广东莞信律师事务所;

  • 代理人谢树宏

  • 地址 523000 广东省东莞市长安镇涌头社区新荣街10号

  • 入库时间 2022-08-22 15:29:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-24

    授权

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