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一种超临界二氧化碳印染系统

摘要

本实用新型公开了一种超临界二氧化碳印染系统,包括:CO

著录项

  • 公开/公告号CN210766137U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-06-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海复璐帝流体技术有限公司;

    申请/专利号CN201921698966.1

  • 发明设计人 杨景峰;

    申请日2019-10-11

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 201109 上海市闵行区元江路525号6号楼8楼

  • 入库时间 2022-08-22 14:36:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-16

    授权

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