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真空闸室和真空处理设备

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根据不同的实施方式提供一种真空闸室(100)，其具有第一腔室壁段(116a)和第二腔室壁段(116b)，其中，第一腔室壁段(116a)具有第一封盖开口(122a)而第二腔室壁段(116b)具有第二封盖开口(122b)。第一封盖开口(122a)可以利用第一腔室封盖(202)遮盖而第二封盖开口(122b)可以利用第二腔室封盖(302)遮盖。两个腔室壁段和两个与其配合的腔室封盖设置为使得真空闸室(100)的需抽空的内部体积尽可能小。

著录项

公开/公告号CN210458359U

专利类型实用新型
公开/公告日2020-05-05

原文格式PDF
申请/专利权人冯·阿登纳资产股份有限公司;
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申请/专利号CN201920323159.5
发明设计人约翰·克劳斯;
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申请日2019-03-14
分类号
代理机构北京品源专利代理有限公司;
代理人王瑞朋
地址德国德累斯顿
入库时间 2022-08-22 13:43:04

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-05-05

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