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公开/公告号CN209859632U
专利类型实用新型
公开/公告日2019-12-27
原文格式PDF
申请/专利权人 东莞理工学院;
申请/专利号CN201920397915.9
发明设计人 何伟锋;
申请日2019-03-27
分类号
代理机构广东腾锐律师事务所;
代理人张雪华
地址 523000 广东省东莞市松山湖科技产业园区大学路1号
入库时间 2022-08-22 11:58:24
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-12-27
授权
机译: 用于生产中子的散裂装置
机译:3-5 ADS散裂靶的屏蔽设计和中子学研究
机译:基于散裂反应的中子发生器用于硼中子俘获治疗的工程设计
机译:用于中子辐射屏蔽的耐高温聚酰亚胺/碳化硼复合材料
机译:使用散裂中子束将几何和屏蔽效应与90nm SRAM中加速的软错误相关联
机译:用于散裂中子靶的固态键合工艺的开发。
机译:3D打印碳化硼PEEK复合材料的中子屏蔽性能
机译:基于散裂的中子靶,用于直接研究中子诱发的中子 反向运动学中的反应
机译:用于嬗变长寿命核废料的散裂中子研究