退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN104614949B
专利类型发明专利
公开/公告日2016-06-29
原文格式PDF
申请/专利权人 河南理工大学;
申请/专利号CN201510068981.8
发明设计人 张书霞;杨学峰;王耿;李明;刘振深;
申请日2015-02-10
分类号
代理机构北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司;
代理人董芙蓉
地址 454000 河南省焦作市高新区世纪路2001号
入库时间 2022-08-23 09:42:22
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-06-29
授权
2015-06-10
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20150210
实质审查的生效
2015-05-13
公开
机译: 具有高深宽比的纳米结构的形成方法以及使用该结构的纳米图案的形成方法
机译: 高深宽比微结构及其制造方法以及高深宽比微结构阵列及其制造方法
机译: 形成高深宽比纳米结构的方法和使用该方法形成纳米图案的方法
机译:使用泄漏介电光刻胶快速制造具有高深宽比的电动流体微/纳米结构
机译:球形光刻和金属辅助化学刻蚀制备高深宽比硅纳米结构及其润湿性
机译:使用毛细管力光刻技术制造高深宽比的纳米结构
机译:在氢气气氛中使用氨添加各向异性热蚀刻(HEATE)方法制备高深宽比p-GaN纳米结构
机译:高深宽比硬质X射线防区板的制备和表征与超纳米晶金刚石模具。
机译:改变高深宽比结构的表面形态的不同方法
机译:使用金纳米颗粒通过金属有机化学气相沉积法生长的高深宽比的ZnO纳米线
机译:使用DpN纳米光刻技术创建金属和半导体纳米结构