一种ECR电子照射密度控制碳膜中纳晶石墨烯尺寸的方法

摘要

本发明公开了一种ECR电子照射密度控制碳膜中纳晶石墨烯尺寸的方法，利用ECR等离子体加工系统，通过调节微波功率在160～400W范围内变化，可实现电子照射密度在30～120mA/cm²范围内变化。利用透射电子显微镜和拉曼光谱对不同电子照射密度下碳膜中纳晶石墨烯尺寸进行表征可得，当电子照射密度从30mA/cm²逐渐增大到120mA/cm²时，纳晶石墨烯平均尺寸从1.09nm逐渐增大到2.69nm。本发明提供的控制方法便于实现碳膜中纳晶石墨烯尺寸的精确控制。