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一种专用光致发光光谱测量的CCD光谱仪

摘要

本实用新型记载了一种专用光致发光光谱测量的CCD光谱仪,包括入射狭缝、准直镜、光栅、成像反射镜以及CCD探测器;在CCD探测器与成像反射镜之间设置有伸缩式陷光挡板,且陷光挡板为低反射率挡板。由于采用了上述技术,本实用新型通过在现有光谱仪的CCD探测器面前增加一个陷光用的陷光挡板,该陷光挡板的位置可以根据激发峰的波长进行位置调节以确保该激发峰被挡住,而仅通过发射峰。此时,可以对发射峰进行重新曝光,以便增加曝光时间,由于激发峰被遮挡使得曝光时间可以加长,从而形成更高的饱和度,并增加光谱的测量质量,此时信号的信噪比远远高于有激发峰一同存在情况下的发射谱光谱信号,从而达到了准确测量低量子效率物质等目的。

著录项

  • 公开/公告号CN208902606U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-05-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海倍蓝光电科技有限公司;

    申请/专利号CN201821108746.4

  • 发明设计人 于立民;

    申请日2018-07-13

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 201517 上海市金山区吕巷镇溪南路86号31幢2107室

  • 入库时间 2022-08-22 09:16:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-24

    授权

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