可控制植物根系环境温度的盆栽装置及其温度控制系统

摘要

本实用新型公开了一种可控制植物根系环境温度的盆栽装置及其温度控制系统，属于植物培养容器领域，包括盆栽容器本体，所述盆栽容器本体的壁体为密封的双层架构，双层架构包括内层壁和外层壁，内、外层壁之间形成间隙空间，所述壁体的外层壁的一侧的下部设置有进水口，所述壁体的外层壁的另一侧上部设置有出水口，所述间隙空间与所述进水口和出水口连通。本实用新型的可控制植物根系环境温度的盆栽装置，可调节植物根系环境温度，用于培育盆栽作物，尤其适用于作物根系研究。可以彻底解决盆栽作物土壤(水)温度不能调节控制的技术难题，使作物根系按试验设计的温度环境中生长，保证了不同批次盆栽试验数据的正确性，控制试验误差。