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一种图形化Si衬底上非极性紫外LED

摘要

本实用新型属于LED技术领域,公开了一种图形化Si衬底上非极性紫外LED。图形化Si衬底上非极性紫外LED包括图形化Si衬底以及非极性紫外LED;图形化Si衬底上设有若干凹槽,所述凹槽的纵截面中一侧壁为竖直的侧壁,凹槽的纵截面为倒三角形或倒梯形;所述凹槽的横截面为四边形。本实用新型将Si衬底进行图形化,图形化Si衬底含有Si(111),有利于制备高质量的非极性GaN薄膜,图形化Si衬底上非极性紫外LED具有缺陷密度低、结晶质量好,器件性能好等特点,可广泛应用于LED、LD、太阳能电池等领域。

著录项

  • 公开/公告号CN208848922U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-05-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华南理工大学;

    申请/专利号CN201820631067.9

  • 发明设计人 李国强;李媛;王文樑;阳志超;

    申请日2018-04-28

  • 分类号

  • 代理机构广州市华学知识产权代理有限公司;

  • 代理人陈智英

  • 地址 510640 广东省广州市天河区五山路381号

  • 入库时间 2022-08-22 09:07:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-10

    授权

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