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公开/公告号CN208848869U
专利类型实用新型
公开/公告日2019-05-10
原文格式PDF
申请/专利权人 浙江师范大学;
申请/专利号CN201821864755.6
发明设计人 张克华;庄千洋;李春茂;马佳航;朱苗苗;
申请日2018-11-13
分类号
代理机构北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人李冉
地址 321000 浙江省金华市婺城区迎宾大道688号
入库时间 2022-08-22 09:07:52
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-10
授权
机译: 电化学机械抛光方法和电化学机械抛光设备
机译: 用于抛光金属层的设备和用于确定衬底上金属层的化学机械抛光终点的方法和衬底
机译: 在用至少一种自由垂直流动的液体清洗设备的抛光垫的同时抛光衬底的方法和设备
机译:不锈钢电化学机械抛光技术的金属去除率-电化学特性
机译:柔性不锈钢基材化学机械抛光的浆料组合物的电化学分析
机译:薄膜太阳能电池用柔性不锈钢基板的电化学机械抛光
机译:电化学机械复合抛光不锈钢基材及其工艺优化
机译:铜电化学机械抛光(Cu-ECMP)中的实验和分子动力学研究。
机译:抛光对不同不锈钢电化学行为和无源层组成的影响
机译:奥氏体不锈钢的电化学抛光
机译:电化学机械,低应力,自动抛光(ECmp)装置(预印本)