首页> 中国专利> 一种基于多层介质膜上银纳米线电场模式的宽场超分辨显微成像装置

一种基于多层介质膜上银纳米线电场模式的宽场超分辨显微成像装置

摘要

本实用新型公开了一种基于多层介质膜上银纳米线电场模式的宽场超分辨显微成像装置,包括:玻璃基底层(1)、多层介质膜(2)、银纳米线(3)和光纤锥(4);在多层介质表面的银纳米线存在一种的本征模式,电场主要分布在银纳米线两侧,通过光纤锥,590nm激光的可以近场激发银纳米线的模式,在光的传输过程中,光会泄露到多层介质膜中,并以一定的角度辐射下去,在基片下面用高数值孔径油浸显微物镜收集信号并在远场成像,在远场可以分辨银纳米线两侧的泄露的光信号,由于银纳米线直径在100nm以下,小于整个成像系统的分辨率,该装置实现了对银纳米线两侧光场的宽场超分辨成像。

著录项

  • 公开/公告号CN208547762U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-02-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学技术大学;

    申请/专利号CN201821107147.0

  • 申请日2018-07-13

  • 分类号

  • 代理机构北京科迪生专利代理有限责任公司;

  • 代理人杨学明

  • 地址 230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号

  • 入库时间 2022-08-22 08:17:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-26

    授权

    授权

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号