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光照强度对光合作用强度影响的装置

摘要

本实用新型属于教具领域,具体涉及一种光照强度对光合作用强度影响的装置,包括暗箱和反应单元,暗箱外部设置背带,暗箱内部设置多个反应单元,多个反应单元并列分布;反应单元包括LED光源、反应器和U形测量装置,LED光源和反应器位于反应单元箱内,U形测量装置固定在反映单元箱外壁上,反应器通过软管连接U形测量装置,计量光合作用产生的氧气量。该实用新型用于定量分析不同光照强度、不同颜色光对光合作用强度影响,具有组装方便,对比试验组充足,切换快捷的特点。

著录项

  • 公开/公告号CN208521515U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-02-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 李勇;

    申请/专利号CN201820435794.8

  • 发明设计人 李勇;杨玲;

    申请日2018-03-29

  • 分类号

  • 代理机构济南瑞宸知识产权代理有限公司;

  • 代理人荆向勇

  • 地址 255400 山东省淄博市临淄区学府路

  • 入库时间 2022-08-22 08:13:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-19

    授权

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