一种适用于染色机的玻片放置框架

摘要

本实用新型提供了一种适用于染色机的玻片放置框架，包括框架本体、玻片支撑机构及导流机构；导流机构及支撑机构均设置在框架本体内壁，玻片支撑机构设置在导流机构下方；框架本体内壁设有多个可放置吸水材料的内清理凹槽，每一内清理凹槽均设置在玻片支撑机构下方，框架本体外壁设有多个可放置吸水材料的外清理凹槽，每一外清理凹槽均与导流机构连通，内清理凹槽及外清理凹槽内均设有吸水性材料。本实用新型所述的一种适用于染色机的玻片放置框架，解决了由于传统全自动染色机工作过程中，因其机械臂提拉玻片容易把试剂或染液低落在机器内部，造成机器内部的污染盒脏乱，容易引起环境的部卫生和后期清洁打扫的不方便。