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一种减小电子显微镜观察晶圆缺陷误差的方法

摘要

本发明涉及大规模集成电路制造领域,尤其涉及一种减小电子显微镜观察晶圆缺陷误差的方法,通过该将晶圆参数直接导入到电子显微镜上,以定义芯片的各种信息,然后再将在电子显微镜下定义好的数据传送并保存到一个数据库中,最后,缺陷检测设备创建缺陷检测的程序时到该数据库中调用晶圆上芯片的信息使得采用电子显微镜观察缺陷的误差被大大地减小,进而确保了观察的精确性。

著录项

  • 公开/公告号CN103646885B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-06-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201310597797.3

  • 发明设计人 倪棋梁;王凯;陈宏璘;龙吟;

    申请日2013-11-22

  • 分类号

  • 代理机构上海申新律师事务所;

  • 代理人竺路玲

  • 地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

  • 入库时间 2022-08-23 09:41:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-06-08

    授权

    授权

  • 2014-04-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20131122

    实质审查的生效

  • 2014-03-19

    公开

    公开

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