用于在具有电极的等离子体处理系统中处理衬底的方法和装置

摘要

本发明涉及用于在等离子体处理系统中控制等离子体的方法和装置，具体公开了用于在多频率等离子体处理室中处理衬底的方法和装置。基极RF信号在高功率电平和低功率电平之间施加脉冲。在基极RF信号施加脉冲时，非基极RF发生器中的每一个响应于控制信号前摄地（proactively）在第一预定义功率电平和第二预定义功率电平之间切换。替代地或另外地，在基极RF信号施加脉冲时，非基极RF发生器中的每一个响应于控制信号前摄地在第一预定义RF频率和第二预定义RF频率之间切换。本发明公开了用于在生产时间之前为非基极RF信号确定第一和第二预定义功率电平和/或第一和第二预定义RF频率的技术。