一种激光烧蚀薄膜制备设备

摘要

本实用新型公开了一种激光烧蚀薄膜制备设备，由电源控制系统、激光系统、样品室、冷却系统和真空气氛系统五部分组成；所述电源控制系统包含：总电源、激光电源功率控制、冷却水控制、选配件位移控制电源；并且所述总电源、激光电源功率控制、冷却水控制、选配件位移控制电源、以及计算机系统之间为控制式电性连接，并且通过一计算机系统及软件形成控制；该设备主要采用激光技术为热源，利用迅速的高温、高压作用形成各种氧化物、氮化物二元膜及三元和多元薄膜，而且结构简单、体积小、制造成本低廉。