公开/公告号CN207380333U
专利类型实用新型
公开/公告日2018-05-18
原文格式PDF
申请/专利权人 深圳奥比中光科技有限公司;
申请/专利号CN201721480191.1
申请日2017-11-08
分类号G02B17/08(20060101);G02B3/02(20060101);G02B27/48(20060101);
代理机构44223 深圳新创友知识产权代理有限公司;
代理人江耀纯
地址 518000 广东省深圳市南山区粤兴三道8号中国地质大学产学研基地中地大楼A808
入库时间 2022-08-22 05:01:46
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-05-18
授权
授权
机译: 用于浸没式光刻的晶片扫描仪中的折反射投影透镜,具有带有浸没透镜组的折射物镜部分,该浸没透镜组由折射率大于特定值的光学高折射率材料制成
机译: 用于折反射还原投影的光学系统-具有两个透镜组,一个正透镜和另一个负透镜,以及偏振分束器
机译: 具有级和空气透镜的折反射光学物镜-校正玻璃和透镜三重透镜中的凹面镜的场曲,以校正产生的像差