公开/公告号CN207210340U
专利类型实用新型
公开/公告日2018-04-10
原文格式PDF
申请/专利权人 加拿大艾浦莱斯有限公司;
申请/专利号CN201720666797.8
申请日2017-06-09
分类号
代理机构南京天翼专利代理有限责任公司;
代理人王晶
地址 加拿大安大略省渥太华市
入库时间 2022-08-22 04:32:31
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-04-10
授权
授权
机译: 一种用于进行等离子体表面处理的装置,具有相同的板处理系统和使用相同的等离子体表面处理的方法
机译: 用于射频等离子体的基于射频等离子体的晶片处理系统的方位传感器阵列
机译: 用于射频等离子体的基于射频等离子体的晶片处理系统的方位传感器阵列