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新型吸光剂及含有它的用于形成有机抗反射膜的组合物

摘要

本发明提供一种由以下化学式1表示的吸光剂及含有它的用于形成有机抗反射膜的组合物,该吸光剂对需要形成微细图案的光刻过程、特别是利用248nmKrF准分子激光形成超微细图案的光刻过程中曝光时所产生的反射光具有优异的吸收性,并有用于形成有机抗反射膜及利用它形成半导体元件的微细图案,化学式1在上述式中,各取代基与说明书中所定义的相同。

著录项

  • 公开/公告号CN103865478B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-06-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 锦湖石油化学株式会社;

    申请/专利号CN201310370128.2

  • 申请日2013-08-22

  • 分类号C09K3/00(20060101);C07C69/74(20060101);C07C69/347(20060101);C07C69/753(20060101);C07C69/75(20060101);G03F7/004(20060101);G02B1/11(20150101);

  • 代理机构11327 北京鸿元知识产权代理有限公司;

  • 代理人姜虎;陈英俊

  • 地址 韩国首尔

  • 入库时间 2022-08-23 09:40:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-21

    专利权的转移 IPC(主分类):C09K3/00 登记生效日:20200803 变更前: 变更后: 申请日:20130822

    专利申请权、专利权的转移

  • 2016-06-01

    授权

    授权

  • 2016-06-01

    授权

    授权

  • 2014-07-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09K3/00 申请日:20130822

    实质审查的生效

  • 2014-07-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 3/00 申请日:20130822

    实质审查的生效

  • 2014-06-18

    公开

    公开

  • 2014-06-18

    公开

    公开

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