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集成电路行业的含络铜离子废水处理系统

摘要

本实用新型公开了集成电路行业的含络铜离子废水处理系统,含络离子处理模块与含铜离子处理模块通过管道连接,对废水先进行含络离子的处理后在进行含铜离子处理,对含络离子水体进行酸碱调节和破络处理后经过格栅井进行悬浮物的拦截,并经过药剂反应进行酸碱平衡、凝结沉淀物,并通过沉淀池进行固液分离,分离后的水体进一步进行酸碱平衡并利用砂滤器进行悬浮物的过滤吸附,本专利申请结合了物理、化学去除杂质、有机物、络铜重离子以及中和酸碱,使排出的水体达到可排放标准,并对排出的污泥、废水进行进一步的再处理,减少浪费以及实现环保的目的。

著录项

  • 公开/公告号CN207031135U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2018-02-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 伟泰科技(无锡)有限公司;

    申请/专利号CN201720791476.0

  • 发明设计人 林超;

    申请日2017-07-03

  • 分类号

  • 代理机构无锡市朗高知识产权代理有限公司;

  • 代理人赵华

  • 地址 214028 江苏省无锡市新区珠江路47号

  • 入库时间 2022-08-22 04:03:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-02-23

    授权

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