法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-10
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01M9/00 授权公告日:20180209 终止日期:20190719 申请日:20170719
专利权的终止
2018-02-09
授权
授权
机译: 用于航空影像计量系统的放大成像镜头,例如用于制造半导体元件的光刻掩模的特性影响的模拟,图像平面代表透镜场平面
机译: 用于模拟受静态或动态场影响的原子和/或分子系统随时间变化的行为的系统和方法
机译: 用于模拟受静态或动态场影响的原子和/或分子系统的时效行为的系统和方法