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高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构

摘要

高额定电流纵向磁场真空灭弧室触头结构,包括布置于真空灭弧室中结构相同的阳极触头系统和阴极触头系统,阳极触头系统包括导电杆、U型铁心和触头片;导电杆一端穿过U型铁心开口处,并与触头片连接;触头片的中部开有两个形状和位置对称的非直线通槽,非直线通槽将触头片分为位于两个非直线通槽间的导流区域和位于两个非直线通槽端部外侧的燃弧区域,导流区域和燃弧区域通过导电桥电连接;U型铁心设置在触头片的背部,且位于燃弧区域之内;阳极触头系统和阴极触头系统相对布置,且U型铁心的开口方向呈错开180°配置;本实用新型结构能大幅减小触头片中的涡流损耗,降低了真空灭弧室的回路电阻;在提高触头间的纵向磁场的同时增大强纵向磁场区域面积。

著录项

  • 公开/公告号CN206849764U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2018-01-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安交通大学;

    申请/专利号CN201720650172.2

  • 申请日2017-06-06

  • 分类号

  • 代理机构西安智大知识产权代理事务所;

  • 代理人何会侠

  • 地址 710049 陕西省西安市咸宁路28号

  • 入库时间 2022-08-22 03:34:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-11

    避免重复授予专利权 IPC(主分类):H01H33/664 授权公告日:20180105 放弃生效日:20200211 申请日:20170606

    避免重复授权放弃专利权

  • 2018-01-05

    授权

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