法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-14
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03B21/14 授权公告日:20171229 终止日期:20190428 申请日:20170428
专利权的终止
2017-12-29
授权
授权
机译: 用于在会员上形成连续图案和不连续图案的投影曝光掩模,使用该掩模的投影曝光的装置,使用该掩模的投影曝光的方法以及制造该投影曝光掩模的方法
机译: 用投影条形图案测量物体表面-涉及将投影图案以两种不同的比例投影到表面上并评估投影之间的跳动
机译: 用于将掩模图案投影到目标投影对象的表面上的投影光学设备和使用该投影光学设备的投影曝光设备