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利用非等向性湿蚀刻法来进行平坦化的方法

摘要

一种利用非等向性湿蚀刻法来进行平坦化的方法。此方法包括将硫酸、磷酸、氢氟酸与水混合成一蚀刻溶液,然后将基底置于蚀刻溶液中,使蚀刻溶液以一适当流速流经基底上的绝缘层以进行蚀刻,此绝缘层具有多个沟渠。本发明利用蚀刻溶液在表面凹凸不平的绝缘层的不同流速来使蚀刻溶液对突起处的蚀刻速率大于对凹陷处的蚀刻速率,进而达成平坦化的目的。

著录项

  • 公开/公告号CN1212650C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2005-07-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 旺宏电子股份有限公司;

    申请/专利号CN02100957.0

  • 申请日2002-01-08

  • 分类号H01L21/306;C23F1/16;

  • 代理机构11245 北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人赵蓉民;王刚

  • 地址 中国台湾

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:41

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2005-07-27

    授权

    授权

  • 2003-10-08

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-07-23

    公开

    公开

  • 2002-05-01

    实质审查的生效

    实质审查的生效

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