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一种烧成气氛可控的陶瓷烧制窑炉

摘要

本实用新型涉及一种烧成气氛可控的陶瓷烧制窑炉,属于陶瓷烧制技术领域。本实用新型的陶瓷烧制窑炉包括烧制区域和气氛控制区域之间的气体通路,主要包括区域之间气体通路,新风进气,气体排风,气流内循环通路,气流外循环通路等。本实用新型解决了电窑内部无法生成稳定可控还原气氛的问题,与传统的柴窑相比,本实用新型一次烧成只需使用极少量的木炭或其它碳组分反应物,控制了能量损失,减少了大量的二氧化碳及其它有害气体排放,同时能够使炉内达到更高的温度,增加陶瓷性能,提升工艺美术特性。而对比目前市场上常用的气窑,不但提高了安全性,也减少了废气排放,而且气氛生成和炉内控温相互独立,用户操作简便,陶瓷产品成品率极大提升。

著录项

  • 公开/公告号CN206724681U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2017-12-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201720204212.0

  • 发明设计人 王琤;张松;赵波;张辉;杨锐;

    申请日2017-03-03

  • 分类号

  • 代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人罗文群

  • 地址 310018 浙江省杭州市下沙经济技术开发区17号大街9号4层

  • 入库时间 2022-08-22 03:19:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-12-08

    授权

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