首页> 中国专利> 一种基于大面荧光吸收的板条放大自发辐射抑制金属化过渡层结构

一种基于大面荧光吸收的板条放大自发辐射抑制金属化过渡层结构

摘要

本实用新型提供了一种基于大面荧光吸收的板条放大自发辐射抑制金属化过渡层结构,该方案包括有从下到上依次设置的板条、倏逝膜、锗层、铂层和金层;倏逝膜镀在板条上;锗层镀在倏逝膜上;铂层镀在锗层上;金层镀在铂层上。该方案采用金属化过渡层抑制板条自发辐射,既能够方便板条可靠焊接,同时能够将板条内部大部分小于全反角的自发辐射荧光吸收,抑制板条内部放大自发辐射。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-08-18

    授权

    授权

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号