公开/公告号CN206338815U
专利类型实用新型
公开/公告日2017-07-18
原文格式PDF
申请/专利权人 天和控股(武汉)有限公司;
申请/专利号CN201621400214.9
发明设计人 张志宏;
申请日2016-12-21
分类号F23G7/00(20060101);
代理机构北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人胡茵梦
地址 430074 湖北省武汉市东湖新技术开发区东一产业园光谷大道金融后台服务中心基地建设项目二期2.5期B18幢12层1号
入库时间 2022-08-22 02:44:47
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-07-18
授权
授权
机译: 等离子体熔化炉的密封填充方法包括:为发光材料等离子体熔化炉提供开放式真空;提供熔融材料管;将可激发材料置于真空中;通过该管排出真空;密封真空;以及将等离子体注入炉中。炉D和等离子密封的第二种方式。
机译: 危险废物处置方法和装置(处理危险废物的装置和方法)
机译: 等离子熔融裂化炉及等离子熔融裂化方法