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钠离子回滴应用于氟硅酸钠生产进行废水处理的系统

摘要

本实用新型公开了一种钠离子回滴应用于氟硅酸钠生产进行废水处理的系统,属于化工领域,解决现有生产工艺外排废水中钠离子超标的问题。该系统包括反应釜、沉降槽、离心机、母液槽、洗涤水槽、旋流沉降器,反应釜与沉降槽相连,沉降槽分别与洗涤水槽和离心机相连,离心机与母液槽相连,母液槽与洗涤水槽相连,洗涤水槽与旋流沉降器相连。本实用新型系统是在生产过程中产生的钠离子超标的废水中加入氟硅酸回滴进行中和反应,并利用旋流分离沉降器进行分离,将废水中的钠离子从原来的0.8%降至0.2%,达到磷酸生产萃取钠离子含量不超过0.35%的要求,使废水得以利用,同时硫酸钠的消耗从1.10降至0.9,产品质量优等。

著录项

  • 公开/公告号CN206308167U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2017-07-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 甘肃瓮福化工有限责任公司;

    申请/专利号CN201621328783.7

  • 发明设计人 赵思全;

    申请日2016-12-06

  • 分类号

  • 代理机构甘肃省知识产权事务中心;

  • 代理人张克勤

  • 地址 737000 甘肃省金昌市永昌县河西堡镇河雅路173号

  • 入库时间 2022-08-22 02:42:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-23

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C02F9/04 授权公告日:20170707 终止日期:20171206 申请日:20161206

    专利权的终止

  • 2017-07-07

    授权

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