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一种立式抗污的紫外线消毒机

摘要

本实用新型公开了一种立式抗污的紫外线消毒机:其结构包括第一固定螺栓、第二固定螺栓、上端盖、主防尘抗污装置、侧边防尘抗污装置、紫外线消毒主机、抗污层、紫外线发生装置固定装置、上底座、散热排气口装置、查看小口、下底座、转接口、出水管、显示器、中间过渡夹层装置,所述第一固定螺栓、第二固定螺栓和上端盖固定连接,所述主防尘抗污装置和上底座固定连接,所述中间过渡夹层装置和上底座活动连接,有两个以上的紫外线发生器,能够较完全的消毒,也有抗污层装置,能够在消毒的同时,也在保护自身的干净整洁。

著录项

  • 公开/公告号CN206183686U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2017-05-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 刘秀敏;

    申请/专利号CN201620819740.2

  • 发明设计人 刘秀敏;

    申请日2016-07-28

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 252000 山东省聊城市兴华东路37号聊城市机械电子医院

  • 入库时间 2022-08-22 02:31:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-19

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):A61L2/10 授权公告日:20170524 终止日期:20180728 申请日:20160728

    专利权的终止

  • 2017-05-24

    授权

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