公开/公告号CN205881480U
专利类型实用新型
公开/公告日2017-01-11
原文格式PDF
申请/专利权人 国核华清(北京)核电技术研发中心有限公司;国家核电技术有限公司;
申请/专利号CN201620537482.9
申请日2016-06-06
分类号
代理机构中国专利代理(香港)有限公司;
代理人邓雪萌
地址 102209 北京市昌平区北七家镇未来科技城南区国核科学技术研究院
入库时间 2022-08-22 02:04:33
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-22
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G21C15/18 授权公告日:20170111 终止日期:20190606 申请日:20160606
专利权的终止
2017-01-11
授权
授权
机译: 在以均匀形式形成的图像形成装置中
机译: 电子束聚焦装置,其形式在晶片和电子束发射器与采用该装置的电子束投射光刻系统之间形成均匀的电磁场
机译: 二维圆形阵列结构以能量密度形式形成均匀充电区域的无线充电方法和装置