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真空灭弧室的陶瓷外壳及真空灭弧室

摘要

本实用新型公开一种真空灭弧室的陶瓷外壳,包括:呈圆筒状的壳体;以及设置于所述壳体的外圆面的沿该外圆面周向延伸的呈环状的多个凹槽;所述多个凹槽沿所述壳体轴向排列形成波纹结构,该波纹结构的波峰呈凸起的圆弧状,该波纹结构的波谷呈内凹的圆弧状,所述波峰和与该波峰相邻的波谷之间平滑连接;所述波峰的半径小于所述波谷的半径。它波峰到波谷的曲线斜度小,釉层的流散性好,且波峰和与该波峰相邻的波谷之间平滑连接,釉层堆积减少,喷釉次数减少,烧成后无釉泡,能简化加工流程。本实用新型还公开一种真空灭弧室。

著录项

  • 公开/公告号CN205789698U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2016-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 成都凯赛尔电子有限公司;

    申请/专利号CN201620690185.8

  • 发明设计人 陈进;

    申请日2016-07-04

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 610500 四川省成都市新都工业东区黄鹤路99号

  • 入库时间 2022-08-22 01:56:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-23

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01H33/664 授权公告日:20161207 终止日期:20190704 申请日:20160704

    专利权的终止

  • 2016-12-07

    授权

    授权

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