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荧光显微设备和荧光显微分析系统

摘要

本实用新型提供了一种荧光显微设备和荧光显微分析系统,荧光显微设备包括物镜和目镜,还包括荧光装置,设置在物镜与目镜之间的光学路径上,以受控地开启从而产生经由物镜照射到观测样品的荧光激发光线,且选择性地透过从物镜传回的来自观测样品的受激自发射荧光;和光电放大器,包括分光镜和放大图像生成装置,分光镜设置在荧光装置与目镜之间的光学路径上,以将受激自发射荧光分成两路出射光线,第一路出射光线传向目镜,第二路出射光线传向放大图像生成装置,以将第二路出射光线的光学图像放大并生成电学图像信号。荧光显微分析系统包括荧光显微设备和监控设备。本实用新型的荧光显微设备能调整至较小倍数以扩大观测视野,且能观测染色样品。

著录项

  • 公开/公告号CN205027669U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2016-02-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京华方神火科技有限公司;

    申请/专利号CN201520711231.3

  • 申请日2015-09-14

  • 分类号

  • 代理机构北京智汇东方知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人薛峰

  • 地址 100085 北京市海淀区上地信息路1号国际科技创业园B座409

  • 入库时间 2022-08-22 01:09:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-02-10

    授权

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