一种用于膝盖滑膜炎的理疗仪用按摩头

摘要

本实用新型涉及一种用于膝盖滑膜炎的理疗仪用按摩头，包括储药构件和按摩构件，储药构件的外周套装有罩体，储药构件的外周设有用于储存药膏的储药槽，储药构件内设有空腔，储药槽和空腔之间贯穿有通孔，按摩构件设置在储药构件的下部，按摩构件与储药构件本体之间设有可开闭的挡板，按摩构件具有内凹的按摩面，按摩构件上贯穿有出药孔，治疗时，将按摩头置于待治疗膝盖上，打开挡板，药膏在按摩头旋转过程中均匀涂抹在膝盖处，在按摩面的旋转按摩过程中促进药膏的吸收，达到消炎止痛的作用。