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就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置

摘要

本实用新型提供了一种就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置,其特征在于包括:探测器定位组件,贴合就地高纯锗γ谱仪的探测器而放置,用于固定探测器的位置;刻度源放置轨道,刻度源放置轨道为0~90°的弧形,在刻度源放置轨道上,在光子入射角θ=0°和θ=90°之间的位置上每隔一定间隔设置一个刻度源放置孔;以及刻度源放置轨道定位组件,紧贴刻度源放置轨道,用于固定刻度源放置轨道的位置。根据本实用新型的技术方案,能够简单、准确、高效地实现就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度。

著录项

  • 公开/公告号CN204177979U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2015-02-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 环境保护部核与辐射安全中心;

    申请/专利号CN201420642498.7

  • 申请日2014-10-31

  • 分类号

  • 代理机构北京国昊天诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人许志勇

  • 地址 100082 北京市海淀区红联南村54号

  • 入库时间 2022-08-22 00:29:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-12-15

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01T1/36 授权公告日:20150225 终止日期:20161031 申请日:20141031

    专利权的终止

  • 2015-02-25

    授权

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