法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-10-19
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):A01K31/00 授权公告日:20141217 终止日期:20150902 申请日:20140902
专利权的终止
2014-12-17
授权
授权
机译: 一种使用DSA预结构和标准金属层形成标准晶体管布局的方法以及具有标准晶体管布局的器件
机译: 一种用于制造包括至少一个掩模的用于光刻的掩模组的方法以及一种用于以公共曝光水平再现预定布局的结构的方法
机译: 具有细胞结构的新型无缝布局,可增强土壤,生产土壤的方法和工艺