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一种激光照排设备的下片缓存系统

摘要

本实用新型涉及一种激光照排设备的下片缓存系统,激光照排设备包括激光照排机和设于其出片口外侧的对接装置,下片缓存系统包括配合设置的下片缓存机构和下片缓存电路,下片缓存电路包括电源模块及与电源模块分别连接的控制模块、翻板检测模块、胶片检测模块和运算模块,翻板检测模块、胶片检测模块分别与运算模块和控制模块顺次连接;下片缓存机构包括配合设置的胶片存储装置和胶片检测装置,胶片存储装置设于激光照排机出片口内侧,胶片检测装置设于对接装置上;翻板检测模块设于胶片存储装置上,胶片检测模块设于胶片检测装置上。本实用新型缩短出片过程中胶片与对接装置的接触时间,胶片寿命增加,不易刮伤,工作效率高,出片快,节约成本。

著录项

  • 公开/公告号CN203210823U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2013-09-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州万德激光有限公司;

    申请/专利号CN201320172670.2

  • 发明设计人 杨松林;朱美娟;

    申请日2013-04-09

  • 分类号

  • 代理机构杭州赛科专利代理事务所;

  • 代理人曹绍文

  • 地址 310012 浙江省杭州市西湖区学院路83号617室

  • 入库时间 2022-08-21 23:54:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-26

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B41B21/32 授权公告日:20130925 终止日期:20180409 申请日:20130409

    专利权的终止

  • 2013-09-25

    授权

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