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一种用于SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘

摘要

本实用新型涉及一种用于SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘。采用的技术方案是:包括漏盘主体,漏盘主体为圆形,在漏盘主体上设有一个同轴的喷射孔,喷射孔为圆柱形,漏盘主体的直径为270mm时,喷射孔的直径为27mm。本实用新型针对SQ200型水汽喷射真空泵的漏盘进行了改进。改进后的水力喷射真空泵,以一孔代替多孔,具有真空度高(绝压为5mmHg),漏盘不堵塞,制造加工方便,成本低,比原来每台设备成本降低三分之一左右。

著录项

  • 公开/公告号CN202756319U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2013-02-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 王长龙;

    申请/专利号CN201220411062.8

  • 申请日2012-08-20

  • 分类号

  • 代理机构沈阳杰克知识产权代理有限公司;

  • 代理人金春华

  • 地址 118002 辽宁省丹东市振兴区大众路9号

  • 入库时间 2022-08-21 23:42:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-10-12

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):F04F5/44 授权公告日:20130227 终止日期:20150820 申请日:20120820

    专利权的终止

  • 2013-02-27

    授权

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