法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-08-14
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C30B11/00 授权公告日:20130213 终止日期:20170828 申请日:20120828
专利权的终止
2013-02-13
授权
授权
机译: 石英玻璃坩埚应变测量装置,硅单晶制造方法,石英玻璃坩埚应变测量方法,相差图,铸锭和同质外延晶片
机译: 石英玻璃坩埚,石英玻璃坩埚的制造方法,硅单晶拉拔装置,铸锭和同质外延晶片
机译: 石墨坩埚通过在碳纤维坩埚底部表面中心形成的圆锥形投影来制造碳化硅单晶,以提高碳化硅粉末的温度梯度和增效