公开/公告号CN202337791U
专利类型实用新型
公开/公告日2012-07-18
原文格式PDF
申请/专利权人 中国一冶集团有限公司;
申请/专利号CN201120396759.8
申请日2011-10-18
分类号C21B7/10(20060101);B66F7/00(20060101);
代理机构42102 湖北武汉永嘉专利代理有限公司;
代理人唐万荣
地址 430081 湖北省武汉市青山区工业大道3号
入库时间 2022-08-21 23:31:49
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-07-18
授权
授权
机译: 用于微光刻的投射曝光装置的包含碳化硅的制备和/或修复组件包括在两个缝隙区域中用填充材料和加热组件填充两个组件之间的缝隙
机译: 墙壁或地板覆盖物瓷砖地板,用于建筑工地的缝隙形成装置,具有填充物以清除间隙中的剩余材料和多余的材料以及振动单元以振动加压单元以帮助材料穿透间隙
机译: 原材料充电装置以及使用该原材料将原材料填充到高炉中的方法