公开/公告号CN202257027U
专利类型实用新型
公开/公告日2012-05-30
原文格式PDF
申请/专利权人 深圳市华星光电技术有限公司;
申请/专利号CN201120387170.1
发明设计人 张志豪;
申请日2011-10-12
分类号
代理机构深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙);
代理人欧阳启明
地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号
入库时间 2022-08-21 23:29:45
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-05-30
授权
授权
机译: 用于光刻胶涂布机的冲洗系统具有避免反向压力作用的能力
机译: 用于光刻胶涂布机的促进附着力的真空监控系统
机译: 履带涂布机的光刻胶供给系统及控制方法