一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备

摘要

本实用新型提供一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备，包括：加热源(1)、支柱(4)、多组传输机构与多块隔板(10)；每组传输机构包括传动轴(9)、两个轴承座(8)与多个滚轮(5)，传动轴(9)通过两个轴承座(8)安装于支柱(4)上，传动轴(9)上间隔固定滚轮(5)，滚轮(5)上还固定有橡胶圈(6)；隔板(10)通过螺钉(3)固定于支柱(4)上，隔板(10)上对应橡胶圈(6)的位置开有方孔(11)；其特征在于，所述的隔板(10)上在两传输机构间的位置设有凹槽(12)。有效解决了高温下隔板变形的问题。节约了成本。保证了基片传送系统的平稳运行以及镀膜环境的稳定性，确保了膜层质量，有效提高了真空镀膜设备的安全性和可靠性。