公开/公告号CN201858959U
专利类型实用新型
公开/公告日2011-06-08
原文格式PDF
申请/专利权人 上海星纳电子科技有限公司;
申请/专利号CN201020546971.3
申请日2010-09-29
分类号
代理机构上海新天专利代理有限公司;
代理人王敏杰
地址 201615 上海市松江区九亭镇盛龙路西侧99号
入库时间 2022-08-21 23:19:29
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-11-16
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01B7/06 授权公告日:20110608 终止日期:20150929 申请日:20100929
专利权的终止
2011-06-08
授权
授权
机译: 非接触式技术,使用涡流探头测量布置在半导体晶片产品上的金属层的厚度
机译: 用于在半导体晶片上提供无耗尽的均匀厚度的cvd薄膜的设备
机译: 用于在半导体晶片上提供无耗尽的均匀厚度的cvd薄膜的设备