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用于磷铜的带有双熔沟结构的熔炼炉

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摘要

本实用新型公开了一种用于磷铜的带有双熔沟结构的熔炼炉，包括炉体，炉体内设有熔炼熔沟，熔炼熔沟包括设于中间的加热体，及环设于加热体四周的二个熔沟空腔，熔沟空腔与加热体之间设有耐火层和冷却层。由于采用双熔沟的结构，与等面积的单熔沟相比能加大电流密度，使熔沟的电流密度可以达到9～12A/mm

1. 用于磷铜的带有双熔沟结构的熔炼炉 [P] . 中国专利： CN201803593U . 2011.04.20
2. 一种应用于熔炼炉上的双室结构 [P] . 中国专利： CN208998537U . 2019.06.18
3. COPPER ELEMENT AND SMELTING FURNACE FOR THE PRODUCTION OF HYDROGEN LEAN COPPER, AND METHOD FOR THE PRODUCTION OF HYDROGEN LEAN COPPER AND COPPER MELT [P] . 欧洲知识产权局专利： EP3363920A1 . 2018-08-22

机译：用于生产氢粗铜的铜元素和熔炼炉以及用于生产氢粗铜和铜熔体的方法
4. ELECTROLYTIC COPPER PLATING METHOD, PHOSPHORUSamp;minus;CONTAINING ANODE FOR ELECTROLYTIC COPPER PLATING, AND SEMICONDUCTOR WAFER PLATED USING THEM AND HAVING FEW PARTICLES ADHERING TO IT [P] . 欧洲知识产权局专利： EP1489203A1 . 2004-12-22

机译：电解铜镀覆方法，磷＆负号;包含用于电解铜镀覆的阳极，以及使用它们电镀的半导体晶片，并带有少量颗粒
5. WALL STRUCTURE ARMED WITH FRAME PARTICULARLY FOR SUPPORTING THE WALLS OF TRENCH OR WORKING DITCH [P] . HUT62951A . 1993-06-28

机译：带有框架的墙壁结构，特别是用于支撑沟槽或工作沟的墙壁