公开/公告号CN103966899B
专利类型发明专利
公开/公告日2016-04-27
原文格式PDF
申请/专利权人 重庆锐今生物制品有限公司;
申请/专利号CN201410192794.6
申请日2014-05-07
分类号
代理机构重庆为信知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人孙人鹏
地址 400026 重庆市江北区港城东路98号4栋5-2
入库时间 2022-08-23 09:38:45
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-04-27
授权
授权
2014-09-03
实质审查的生效 IPC(主分类):D21H 19/70 申请日:20140507
实质审查的生效
2014-08-06
公开
公开
机译: 可以将两种模式的磁通量分布(平衡模式/不平衡模式)从一种切换到另一种的磁控溅射装置,以及一种使用该装置由无机成膜材料形成膜的成膜方法,以及一种双模式磁控溅射装置及成膜方法,使用该装置由无机成膜材料在低温下成膜
机译: 成膜材料,光刻技术,成膜材料,光学成分形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,抗蚀剂永久膜,放射线敏感性组合物,非晶膜制造方法,光刻法成膜下层膜形成成分,光刻层膜生产方法和电路图形形成方法
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