法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-12-17
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):E02D3/10 授权公告日:20100714 终止日期:20131026 申请日:20091026
专利权的终止
2010-07-14
授权
授权
机译: 无排水砂垫层的真空预压方法
机译: 真空膜-无膜真空预压及处理方法处理软土地基的装置
机译: 用于通过电子倍增的真空管中的离子阻挡膜,通过电子倍增的真空管中的电子倍增结构以及通过电子倍增提供的电子的真空管中的真空倍增管。